碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响

• 作者: 卢启鹏 王依 高云国
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 极紫外光刻 碳污染 清洗技术 反射率
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 164-169
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201744.0303004

摘要

极紫外光刻系统中的碳污染会降低多层膜反射率,在保证光学元件性能的前提下,如何选择碳清洗工艺是一项重要课题.通过对不同清洗工艺的原理分析,揭示了不同工艺对多层膜反射率的影响主要体现在膜层氧化、刻蚀及表面粗糙度劣化等方面.基于时域有限差分方法及总积分散射理论,研究了不同影响因素与多层膜反射率的关系.结果表明,膜层氧化及表面粗糙度劣化是导致多层膜反射率下降的主要因素,而刻蚀的影响相对较小.基于以上分析结果,射频氢等离子体及原子氢清洗技术,在去除光学元件表面沉积碳的同时,不会显著降低光学元件性能,可优先考虑采用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高云国	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	77	808	16.0	24.0
2	卢启鹏	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	63	574	13.0	22.0
3	王依	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	4	5	2.0	2.0