涡流对电真空器件内磁分布的影响及抑制方法

• 作者: 孙迪敏 孟凡宝 宋睿 胡林林 陈洪斌 马国武
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 涡流 电真空器件 短脉冲磁场
• 年，卷（期）: 2017,（11）
• 所属期刊栏目: 太赫兹技术
• 页码范围: 46-50
• 页数: 5页
• 分类号: TN722
• 字数: 2339字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201729.170096

摘要

短脉冲线圈电流励磁是高频电真空器件中实现超强磁场的重要技术途径之一,此时器件内将不可避免地产生涡流并进一步对内部磁场分布构成影响.针对使用短脉冲磁场时涡流对电真空器件内磁分布的影响进行了研究,分析了线圈电流脉冲宽度、金属电导率和金属厚度等对涡流的影响,结果表明:随着线圈电流脉冲宽度的减小、金属电导率和金属厚度的增加,涡流对内部磁场的影响也随之增加,导致管内空间无法有效励磁.提出了两种抑制涡流影响的措施,包括采用高电阻率导体进行薄层电镀和对管壁金属纵向切槽开缝.计算结果表明,这两种方法能够有效抑制涡流对器件内部磁场分布的影响,具有良好的实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟凡宝	中国工程物理研究院应用电子学研究所	77	403	11.0	14.0
2	陈洪斌	中国工程物理研究院应用电子学研究所	55	229	8.0	12.0
3	胡林林	中国工程物理研究院应用电子学研究所	35	152	6.0	11.0
4	马国武	中国工程物理研究院应用电子学研究所	35	94	4.0	7.0
5	宋睿	中国工程物理研究院应用电子学研究所	10	35	3.0	5.0
6	孙迪敏	中国工程物理研究院应用电子学研究所	12	23	3.0	4.0