高效率低向上反射的氮化硅光栅耦合器

• 作者: 张赞允 朱华 李鸿强
• 来源期刊: 聊城大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 光互连 光子集成技术 光栅耦合器 氮化硅
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 光纤通信与光电器件
• 页码范围: 31-36
• 页数: 6页
• 分类号: TN256
• 字数: 3983字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19728/j.issn1672-6634.2018.04.006

摘要

氮化硅材料相比硅材料具有插入损耗低、热稳定性好、制作容差大及相对误差容忍度高的优点,引起了人们广泛的关注和极大的研究兴趣.光栅耦合器作为光芯片与片外光源的接口,以其优良的光耦合性能、放置位置灵活和便于晶圆级在线测试等诸多优点,在很多应用领域已经占据了越来越重要的位置.本文设计了一种基于氮化硅材料的垂直耦合的光栅耦合器,采用变迹光栅结构,实现了对入射光的垂直耦合.在1 550nm波长处,在带有衬底金属反射镜的情况下单向传输的耦合效率达到了79.5％,不引入金属反射镜的器件仍然能达到57.8％的耦合效率值,能很好地实现单向垂直光耦合的性能.对比同类型的硅材料的光栅耦合器,本设计在垂直输入耦合时向上反射的光损耗极低仅为0.29％,大大减弱了器件的负二阶上反射对光纤中入射光引起的串扰.这个设计对氮化硅光栅耦合器的实际制作有一定的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李鸿强	天津工业大学电子与信息工程学院	47	347	11.0	16.0
2	张赞允	天津工业大学电子与信息工程学院	3	36	1.0	3.0
3	朱华	天津工业大学电子与信息工程学院	1	1	1.0	1.0