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温度对MPCVD法同质外延单晶金刚石缺陷的影响
温度对MPCVD法同质外延单晶金刚石缺陷的影响
作者:
丁康俊
夏禹豪
宋修曦
耿传文
马志斌
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微波等离子体化学气相沉积
发射光谱
单晶金刚石
缺陷
摘要:
利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法在含有缺陷的单晶金刚石种晶上进行同质外延生长实验,在其他沉积参数保持相同的情况下,研究温度对生长的单晶金刚石缺陷的影响.通过发射光谱、拉曼光谱以及SEM对单晶金刚石进行表征.实验结果表明:单晶金刚石温度越高,金刚石表面的等离子体发射光谱中的谱线强度比值I(C2)/I(Hα)也越高;而电子温度越低,等离子体中粒子间的碰撞更加剧烈.在740 ℃沉积时,单晶金刚石表面会在同质外延生长后出现从缺陷处贯穿的裂痕;在780和820 ℃沉积时,单晶金刚石表面缺陷有被抑制和覆盖的趋势,缺陷面积减小;而在860 ℃沉积时,缺陷面积扩大且凸起更为明显.因此,在适宜温度下生长的单晶金刚石质量较好,金刚石特征峰偏移小、应力较小;温度过高或不足,金刚石特征峰向低波数偏移程度较大,压应力较大.
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文献信息
篇名
温度对MPCVD法同质外延单晶金刚石缺陷的影响
来源期刊
金刚石与磨料磨具工程
学科
工学
关键词
微波等离子体化学气相沉积
发射光谱
单晶金刚石
缺陷
年,卷(期)
2018,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
8-11,19
页数
5页
分类号
TQ164
字数
3110字
语种
中文
DOI
10.13394/j.cnki.jgszz.2018.2.0002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
马志斌
武汉工程大学材料科学与工程学院
2
12
1.0
2.0
5
丁康俊
武汉工程大学材料科学与工程学院
4
11
2.0
3.0
7
宋修曦
武汉工程大学材料科学与工程学院
4
11
2.0
3.0
9
耿传文
6
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1.0
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夏禹豪
武汉工程大学材料科学与工程学院
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传播情况
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引文网络
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二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
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节点文献
微波等离子体化学气相沉积
发射光谱
单晶金刚石
缺陷
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研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
金刚石与磨料磨具工程
主办单位:
郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
1006-852X
CN:
41-1243/TG
开本:
16开
出版地:
郑州市高新区梧桐街121号
邮发代号:
36-34
创刊时间:
1970
语种:
chi
出版文献量(篇)
2468
总下载数(次)
7
总被引数(次)
15377
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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金刚石与磨料磨具工程2018年第6期
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金刚石与磨料磨具工程2018年第3期
金刚石与磨料磨具工程2018年第2期
金刚石与磨料磨具工程2018年第1期
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