低温等离子体在多晶硅行业的应用研究

• 作者: 丁小海 庞巧华 张宝顺 王体虎 肖建忠 郭光伟
• 来源期刊: 青海科技
• 关键词: 等离子体 DBD 多晶硅 氯硅烷
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 制造科技
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 字数: 2494字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9393.2018.02.010

摘要

在化学合成、材料制备等技术领域,低温等离子体因其独特的化学活性而被广泛地研究及应用.本文从低温等离子体发生机理出发,介绍了几种不同的等离子体发生器放电模式,结合多晶硅生产中氯硅烷制备工序,采用介质阻挡放电(DBD)附加催化剂,结果表明:在频率100kHz、5kV电压激励下,H2/STC摩尔比10:1,反应气以5.0L/min流经反应器,STC一次转换效率达到5.32％,在此基础上,提出低温等离子体在多晶硅行业的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁小海		1	2	1.0	1.0
5	张宝顺		1	2	1.0	1.0
9	肖建忠		2	4	2.0	2.0
10	郭光伟		1	2	1.0	1.0
11	庞巧华		1	2	1.0	1.0
12	王体虎		2	4	2.0	2.0