MOCVD系统反应室流场的模拟优化设计

• 作者: 张媛
• 来源期刊: 工业加热
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 流场 数值模拟 优化设计
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 模拟仿真
• 页码范围: 46-48
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 1494字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1639.2018.05.012

摘要

金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统是制备GaN等半导体薄膜材料、建筑材料、LED等光电子器件装饰材料主要设备.本文采用计算流体力学软件Fluent对MOCVD反应器内温度场及速度场进行模拟分析.对MOCVD反应器内的传热传质机理进行分析,从而为MOCVD反应器内设计提供理论依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张媛		11	4	1.0	1.0