三维MIM电容器Al2O3/HfO2异质层叠介质薄膜性能及影响

• 作者: 丑修建 何剑 穆继亮
• 来源期刊: 中北大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 三维电容器 功率电子器件 原子层沉积 异质层叠 能量密度
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 电子与电子信息
• 页码范围: 615-620
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2232字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-3193.2018.05.022

摘要

针对介质对电容器容值、电压及能量密度的影响,设计了一种基于 Al2O3和 HfO2介质的同质单层和异质层叠三维 MIM电容器,采用原子层沉积技术制备了介质薄膜,利用SEM、XPS和半导体分析仪等测试手段,重点研究不同介质薄膜特性及对 MIM电容器的影响.结果表明:原子层沉积的电容器介质薄膜均具有稳定的介电特性,通过比较发现,Al2O3/HfO2/Al2O3结构中,HfO2两端的Al2O3薄膜对HfO2层起到了对载流子带隙隔离和抑制直接隧穿的作用,相比同质单层结构,异质层叠结构降低了电容器漏电流,提升其能量密度达 50%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丑修建	中北大学仪器与电子学院	49	225	9.0	13.0
5	穆继亮	中北大学仪器与电子学院	21	66	4.0	8.0
9	何剑	中北大学仪器与电子学院	21	25	3.0	3.0