抛光颗粒尺度均匀性对射流去除特性的影响

• 作者: 付文静 张蓉竹 芈绍桂
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光颗粒 冲击去除 不均匀性 去除量 质量分数
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 5-10
• 页数: 6页
• 分类号: TH16|TH74
• 字数: 3903字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201830.170295

摘要

基于单喷嘴射流抛光去除机理,研究了抛光颗粒尺度分布理想均匀时,颗粒直径和抛光液质量分数变化对冲击去除分布的影响.在此基础上,考虑到实际加工过程中,抛光粉颗粒不可避免地存在分布不均匀的情况,在非理想不均匀条件下,提出了一种分析颗粒尺度的材料去除特性模型,重点研究了不同颗粒尺度分布范围对材料去除特性的影响.结果表明:在理想状态下,冲击去除随着抛光颗粒直径的增大而减小,随着抛光液质量分数的增大而增大.当颗粒直径随机分布时,材料去除量将出现明显的波动,抛光液质量分数的增大使去除量波动也增加,去除量波动的大小与抛光粉颗粒的平均直径直接相关,且与理想均匀状态下的去除特性相比,颗粒分布不均匀性使得材料的去除量有所增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张蓉竹	四川大学电子信息学院	107	573	10.0	20.0
2	芈绍桂	四川大学电子信息学院	4	1	1.0	1.0
3	付文静	四川大学电子信息学院	2	0	0.0	0.0