磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响

• 作者: 张学成 彭小强 戴一帆 李圣怡
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁射流抛光 射流稳定性 抛光区 去除机理
• 年，卷（期）: 2006,（6）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 1004-1008
• 页数: 5页
• 分类号: TH161
• 字数: 3249字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2006.06.014

摘要

研究了磁射流抛光时几种工艺参数对材料去除的影响.首先介绍了磁射流抛光的原理和实验装置,然后从实验出发研究了磁射流抛光中材料的去除.利用标准的磁流变液进行了一系列定点抛光实验.重点研究了冲击角、工作距离、射流速度和磁场强度对抛光区形状和去除量的影响,获得了相应的关系曲线.运用计算流体力学方法分析了材料去除机理.为进一步研究磁射流抛光的各种参数的最佳匹配,实现磁射流抛光的数控加工奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院机电工程系	109	1657	23.0	33.0
2	李圣怡	国防科技大学机电工程与自动化学院机电工程系	186	3101	27.0	44.0
3	张学成	国防科技大学机电工程与自动化学院机电工程系	7	146	6.0	7.0
4	彭小强	国防科技大学机电工程与自动化学院机电工程系	34	661	15.0	25.0