磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响

• 作者: 彭小强 戴一帆 李兆泽 李圣怡
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 磨料射流 抛光 去除率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2008,（21）
• 所属期刊栏目: 超精密加工
• 页码范围: 2532-2535
• 页数: 4页
• 分类号: TH161
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2008.21.004

摘要

介绍了磨料射流抛光的工作原理,并从试验出发,针对射流抛光技术的主要工艺参数(入射角度、射流速度、入射距离、抛光液浓度和工作时间等)对抛光特性的影响进行了试验研究.分析了各工艺参数与抛光效率和抛光点形貌的影响关系,从而获得了最佳工艺参数.在此基础上,对一平面K9光学玻璃进行了抛光试验,抛光速率约为30nm/min,抛光区粗糙度小于2.5nm.研究结果为磨料射流抛光加工的进一步研究提供了一定的帮助.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆		64	1121	16.0	32.0
2	李圣怡		77	1079	17.0	30.0
3	彭小强		26	313	10.0	17.0
4	李兆泽		1	16	1.0	1.0