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摘要:
采用提拉法生长了双掺杂钕离子(Nd3+)和铟离子(In3+)的同成分LiTaO3单晶.测量了该单晶的紫外-可见光吸收光谱,分析了该晶体的缺陷结构,得到了铟离子的掺杂浓度阈值.当铟离子掺杂浓度达到该阈值时,In∶Nd∶LiTaO3晶体的抗光损伤能力显著增强.铟离子取代晶体中的反位TaLi4+,使晶体光电导增大,减弱了光折变效应.In∶ Nd∶ LiTaO3晶体在光波长0.808 μm处的吸收峰的半峰全宽为15 nm,吸收截面为5.26×10-21cm2.采用0.808 μm半导体激光作为抽运源,钕离子在光波长1.06 μm处出现强烈的荧光带.这些研究结果表明,In∶ Nd∶ LiTaO3作为多功能晶体可以应用于高功率的光子学或光电子学器件中.
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文献信息
篇名 铟钕掺杂钽酸锂单晶的生长及光学性能
来源期刊 光学学报 学科 物理学
关键词 材料 钽酸锂晶体 缺陷结构 光损伤 荧光特性
年,卷(期) 2018,(1) 所属期刊栏目 材料
研究方向 页码范围 246-251
页数 6页 分类号 O734
字数 语种 中文
DOI 10.3788/AOS201838.0116003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王吉明 25 89 5.0 9.0
2 刘友文 26 75 5.0 8.0
3 赫崇君 13 20 3.0 4.0
4 吴彤 12 42 3.0 6.0
5 李伟立 1 0 0.0 0.0
6 顾晓蓉 8 13 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
材料
钽酸锂晶体
缺陷结构
光损伤
荧光特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
半月刊
0253-2239
31-1252/O4
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
4-293
1981
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
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