纯二氧化钒薄膜制备工艺参数试验优化研究

• 作者: 左敦稳 徐锋 董亮
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化钒靶 二氧化钒 最佳工艺 透过率
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 12-17
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 字数: 4249字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16247/j.cnki.23-1171/tq.20180312

摘要

针对传统方法制备VO2膜成分伴随多种其他钒氧化物生成的问题,设计正交试验采用VO2靶在蓝宝石基底上通过射频磁控溅射的方法制备VO2薄膜,并对其进行退火热处理.对XRD检测结果进行分析,工艺参数下所制备的薄膜均在以2θ=28.9°为中心出现较明显的衍射峰,并在2θ=44.3°出现微弱衍射峰,分别对应VO2的(011)、(021)两个面,并且只有这两个衍射峰.发现其制备薄膜纯度高,避免了传统制备方法多种钒氧化物的生成.检测了2～25μm波段范围内高低温(15、80℃)透过率.在选定波段,常温透过率可达60％以上,高温相变后透过率低于10％,透过率变化幅度高于50％.在最优工艺参数下制备的薄膜具有更好的激光防护性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳		510	3780	26.0	32.0
2	徐锋		85	541	13.0	18.0
3	董亮		3	9	2.0	3.0