355 nm全固态紫外激光直写刻蚀硼硅玻璃微通道

• 作者: 李奇思 李旺旺 杨娇燕 林立娜 梁庭 熊继军 雷程
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光技术 激光制造 全固态紫外激光 硼硅玻璃 微通道刻蚀
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 激光制造
• 页码范围: 79-86
• 页数: 8页
• 分类号: O437
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201845.0802003

摘要

利用355nm全固态紫外激光对硼硅玻璃进行了直写刻蚀实验, 采用单一变量法探究了激光能量密度、重复频率、扫描速度、扫描间距、扫描次数对刻蚀结果的影响.研究结果表明, 激光能量密度过大时, 玻璃易发生严重的崩边裂损现象;等离子体屏蔽效应随激光能量密度的增大而增强, 刻蚀深度减小;随着重复频率的减小, 通道边缘碎裂的现象减轻, 刻蚀深度增大;减小扫描间距可有效改善沟道底面的平整度;刻蚀深度随扫描次数的增多而增大, 同时沟道锥度增大.在较优的加工参数下, 实现了宽度为84.8μm, 刻蚀深度为178μm, 底面较平整, 沟道垂直度达89.580°的L型微通道的直写刻蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁庭		29	96	6.0	8.0
2	熊继军		111	702	13.0	19.0
3	雷程		8	13	3.0	3.0
4	林立娜		2	0	0.0	0.0
5	杨娇燕		2	0	0.0	0.0
6	李奇思		2	0	0.0	0.0
7	李旺旺		2	3	1.0	1.0