激光印痕研究中的硅平面薄膜和刻蚀膜

• 作者: 吴广明 周斌 张勤远 徐平 沈军 王珏 王跃林 邓忠生 陈玲燕 韩明
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 激光印痕靶 自截止腐蚀 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 300304
• 页数: 5页
• 分类号: O472
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2001.04.003

摘要

研制了用于激光印痕研究的Si平面薄膜和刻蚀膜。膜制备的主要工艺采用氧化、扩散、光刻等现代半导体技术，并结合自截止腐蚀技术。Si平面膜厚度为3～4μm，表面粗糙度为几十nm。采用离子束刻蚀工艺，在Si膜表面引入25μm×25μm的网格图形或线宽为5μm的条状图形，获得了相应图形的Si刻蚀膜。探讨了扩散、氧化、腐蚀工艺对自支撑Si平面薄膜的表面粗糙度的影响，研究了离子束刻蚀参数对刻蚀图形形貌的影响。