驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜

• 作者: 吴广明 周斌 张勤远 徐平 沈军 王珏 赖珍荃 邓忠生 陆卫昌 陈玲燕 韩明
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: Si平面薄膜 瑞利-泰勒不稳定性 ICF分解实验 驱动光束不均匀
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 181-184
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2959字
• 语种: 中文

摘要

介绍以氧化、扩散、光刻等现代半导体技术结合化学腐蚀工艺实现对Si片的定向自截止腐蚀,制备获得用于研究驱动光束不均匀性的自支撑Si平面薄膜的工艺.通过台阶仪测量厚度在3～4μm的Si平面薄膜,在扫描范围为1000μm时,它的表面粗糙度为几十纳米;SEM测量表明,Si薄膜表面颗粒度在纳米量级;探讨了采用控制扩散、腐蚀参数和表面修饰处理来降低Si膜表面粗糙度的方法.