单晶片清洗设备化学药液温度控制系统研制

• 作者: 乔凯静
• 来源期刊: 中国科技投资
• 关键词: 单晶片清洗 化学药液 温度 控制系统
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 设计与应用
• 页码范围: 296
• 页数: 1页
• 字数: 2035字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5811.2018.01.279

摘要

随着国家科学技术水平的进步与提升,相关科研团队对单晶片清洗系统的研究提高了重视.在近几年的发展中,相关科研团队还对单晶片清洗系统中涉及到的技术手段和控制方式进行了深入的研究,并将一些先进的控制技术应用其中,以此来提高单晶片清洗系统的运作效率和质量.另外,对化学药液的温度进行合理控制在单晶片清洗系统的运作中有着重要的作用,需要相关工作团队能够对其控制系统进行完善与改进.本篇文章就单晶片清洗设备化学药液温度控制系统研制方面的内容进行简单论述,仅供参考.

作者信息

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1	乔凯静		1	0	0.0	0.0