利用量子化学研究制备硅硼陶瓷的CVD反应热力学

• 作者: 任海涛
• 来源期刊: 科技与创新
• 关键词: 硅硼陶瓷 CVD 热力学计算 气相反应
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 理论探索
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TQ174.75+8.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.15913/j.cnki.kjycx.2018.05.001

摘要

针对BCl3–SiCl4–H2–Ar制备硅硼陶瓷体系,基于已建立的热力学数据库,根据化学平衡原理,对Si-B体系进行了热力学产物平衡浓度分布研究,计算得到在典型CVD工艺参数下体系中重要产物的平衡浓度分布,以及相关重要固相产物硼(B)以及SiB14的分布规律,以期为实验研究提供可靠的理论参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任海涛	天津大学材料科学与工程学院先进陶瓷加工技术教育部重点实验室	6	1	1.0	1.0