基于MVC架构的CMP软件模块开发研究

• 作者: 孔宪越 孟晓云 杨元元
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 模型-视图-控制器架构 软件设计方法
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TP311
• 字数: 1864字
• 语种: 中文

摘要

针对化学机械抛光技术(CMP)软件系统复杂、工艺控制种类繁多、运行参数数据量大等问题,提出将MVC(Model-View-Controller)架构应用于CMP软件设计的方法;阐述了MVC架构在CMP软件设计中的应用以及在事件管理程序设计(模块3)和信息筛选中的应用;基于MVC架构的软件设计方法降低了软件模块之间的耦合性,提高了程序的复用性和可维护性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨元元	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	15	2.0	3.0
2	孟晓云	中国电子科技集团公司第四十五研究所	2	2	1.0	1.0
3	孔宪越	中国电子科技集团公司第四十五研究所	2	2	1.0	1.0