氮化硅陶瓷球研磨去除方式

• 作者: 吴玉厚 孙健 张珂 李颂华 王定文
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅 有限元仿真 表面质量 材料去除方式
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 页码范围: 38-44
• 页数: 7页
• 分类号: TG58|TH16
• 字数: 5020字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.3.0007

摘要

为研究研磨工艺参数对氮化硅陶瓷球表面材料去除机理及表面质量的影响,采用立式研球机,通过改变研磨盘转速和压力对氮化硅陶瓷球进行研磨试验,利用扫描电镜、超景深三维显微镜检测研磨后陶瓷球的表面形貌,并运用ABAQUS进行有限元模拟,分析研磨过程中氮化硅陶瓷球表面材料的去除方式及表面质量.研究表明:研磨盘转速和压力对研磨过程中陶瓷球表面材料的去除方式、表面缺陷和表面质量影响较大,随着研磨盘转速和压力的减小,其表面划伤、凹坑和雪花等缺陷明显减少,表面质量随之提高;当压力较大、研磨盘转速较高时,材料以二体断裂去除为主;当压力较小、研磨盘转速较低时,材料以三体脆性断裂去除为主;与二体断裂去除相比,三体脆性断裂去除产生的亚表面裂纹更深.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴玉厚	沈阳建筑大学高档石材数控加工装备与技术国家地方联合工程实验室	281	1922	22.0	31.0
2	张珂	沈阳建筑大学机械工程学院	135	960	17.0	24.0
3	李颂华	沈阳建筑大学机械工程学院	59	261	9.0	13.0
7	孙健	沈阳建筑大学机械工程学院	45	123	7.0	9.0
8	王定文	沈阳建筑大学机械工程学院	2	0	0.0	0.0