辉光放电质谱法在高纯材料分析中的应用

• 作者: 周渊名 左文家 张腾月 徐平 梁雪松 洪梅 王树英 王爽 白杉 郭雅尘
• 来源期刊: 中国无机分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 辉光放电质谱法 高纯金属 高纯半导体 应用
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 评述与进展
• 页码范围: 24-34
• 页数: 11页
• 分类号: O657.63|TH843
• 字数: 5962字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1035.2019.02.007

摘要

高纯材料是现代高新技术发展的基础,在电子、光学和光电子等尖端科学领域发挥着重要作用.采用固体样品直接分析的辉光放电质谱法(GDMS),在高纯金属、高纯半导体材料的痕量和超痕量杂质分析中有着非常广泛的应用.综述了GDMS法对高纯金属、高纯半导体材料进行的元素分析,并对分析过程中工作参数、溅射时间、干扰峰等因素的影响进行了阐述.同时,也详述了应用GDMS法对高纯金属钛、镉,高纯半导体硅,分别进行的痕量杂质元素分析,结果显示放电稳定性良好,典型元素含量的相对标准偏差均在较为理想范围内.GDMS应用前景广泛,未来,GDMS将在除固体样品之外的其他样品类型的分析领域中发挥重要作用.