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各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性研究
各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性研究
作者:
陈苏伟
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
晶圆电镀
电流密度
镀层厚度
摘要:
根据晶圆电镀原理,建立简化的晶圆双面电镀槽模型,分析了改变阴阳极间距对电流密度的影响,探索了各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性.
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文献信息
篇名
各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性研究
来源期刊
电子工业专用设备
学科
工学
关键词
晶圆电镀
电流密度
镀层厚度
年,卷(期)
2019,(2)
所属期刊栏目
半导体制造工艺与设备
研究方向
页码范围
13-15,36
页数
4页
分类号
TN304.05
字数
2553字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-4507.2019.02.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈苏伟
中国电子科技集团公司第四十五研究所
3
1
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传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
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电流密度
镀层厚度
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
开本:
大16开
出版地:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号:
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
总被引数(次)
10002
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