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摘要:
根据晶圆电镀原理,建立简化的晶圆双面电镀槽模型,分析了改变阴阳极间距对电流密度的影响,探索了各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 各种镀层厚度不同图形双面电镀的可行性研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 晶圆电镀 电流密度 镀层厚度
年,卷(期) 2019,(2) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 13-15,36
页数 4页 分类号 TN304.05
字数 2553字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2019.02.004
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序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈苏伟 中国电子科技集团公司第四十五研究所 3 1 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
晶圆电镀
电流密度
镀层厚度
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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