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摘要:
高深宽比微结构的底部及侧壁形貌重构是微机电系统领域亟待解决的一个问题.本文提出光程补偿近红外光透射反射干涉技术重构微结构内部形貌的方法,所采用的近红外光干涉技术将白光干涉系统中的光源扩展至近红外光源,将反射干涉技术扩展至透射反射干涉技术,近红外光干涉测量系统由近红外光光源、干涉显微镜、红外光CCD、高精度压电陶瓷和数据采集系统组成.设计了具有两个台阶的GaAs半导体微结构待测样品,采用近红外光垂直扫描干涉法并通过光程补偿,重构了微结构的内部三维形貌,并与扫描电镜结果进行对比.光程补偿近红外光透射反射干涉技术测量的台阶相对高度分别为2.132μm和0.766μm,与扫描电镜和近红外光反射干涉测量结果基本一致,分别对应2.16%和2.68%的相对误差.测量结果表明,该测量系统能够测量高深宽比微结构底部及侧壁形貌.
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文献信息
篇名 光程补偿近红外光透射反射干涉重构 微结构内部形貌
来源期刊 中国光学 学科 物理学
关键词 近红外光透射反射干涉 微结构 重构内部形貌
年,卷(期) 2019,(2) 所属期刊栏目 原创文章
研究方向 页码范围 395-404
页数 10页 分类号 O435.1
字数 3498字 语种 中文
DOI 10.3788/CO.20191202.0395
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史健华 山西大同大学物理与电子科学学院 1 0 0.0 0.0
2 韩丙辰 山西太原师范学院物理学院 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
近红外光透射反射干涉
微结构
重构内部形貌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国光学
双月刊
2095-1531
22-1400/O4
大16开
吉林省长春市东南湖大路3888号
12-140
1985
chi
出版文献量(篇)
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