溶胶-凝胶法制备NixZn1-xS薄膜的磁性分析

• 作者: 薛红艳
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnS薄膜 Ni掺杂 溶胶-凝胶法 磁性 缺陷
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 原子分子物理交叉学科
• 页码范围: 134-137
• 页数: 4页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2019.01.022

摘要

由于离子掺杂可有效改善ZnS薄膜的特性,故本研究以溶胶-凝胶法制备NixZn1-xS薄膜(x=0.00,0.05,0.10,0.15),并利用XRD、PL光谱及磁性测试仪分析Ni掺杂对其磁性的影响.研究结果表明Ni掺杂量x为0.00、0.05、0.10及0.15时薄膜的饱和磁化强度随分别为6.59×10-6 emu/cm3、4.61×10-6 emu/cm3、3.88×10-6 emu/cm3及3.52×10-6 emu/cm3,即饱和磁化强度随x增加而减小. PL分析表明缺陷发光强度随x增加而减弱,能隙发光强度则随之增强,结合束缚极化子理论便知饱和磁化强度会随x增加而减小. XRD分析表示结晶品质随x增加而变好,说明薄膜中的缺陷数量会随x增加而减少,使得磁信号无法通过缺陷方式传导而导致其磁性减弱.