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摘要:
为提高等离子体射流在材料表面处理、环境保护及消毒灭菌等领域中的应用效果,通过在大气压Ar等离子体射流中添加适量NH3/H2O气体,增强等离子体射流活性.利用发射光谱诊断和发光图像拍摄,研究Ar/NH3/H2O等离子体射流NH、OH、O等强氧化性粒子发射光谱强度及射流长度随外加电压和添加气体含量的变化规律,测量相应条件下电压电流波形和Lissajous图形,并对实验结果做机理分析与讨论.研究结果表明,Ar/NH3/H2O等离子体射流主要产生Ar、N2、NH、OH和O等粒子.随外加电压增大,NH、OH和O等粒子谱线强度、射流长度、放电功率和传输电荷均随之增大.当NH3在Ar/NH3气体体系中体积分数达到0.012 5%时,NH自由基发射光谱强度达到最大.在此条件下添加H2O,发现当H2O体积分数达到0.25%时,OH和O粒子谱线强度达到最大,比Ar/NH3放电时OH和O粒子谱线强度分别增加了104.4%和55.8%,而NH粒子谱线强度则下降了18.7%,此时等离子体射流中氧化性粒子(NH、OH和O)总发射光谱强度达到最大,更有利于在材料亲水改性和消毒灭菌等方面应用.
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文献信息
篇名 大气压Ar/NH3/H2O等离子体射流放电特性
来源期刊 高电压技术 学科
关键词 大气压等离子体射流 低温等离子体 放电特性 发射光谱 活性粒子 谱线强度
年,卷(期) 2019,(6) 所属期刊栏目 脉冲功率与放电等离子体
研究方向 页码范围 1936-1944
页数 9页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.13336/j.1003-6520.hve.20180807002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 方志 79 835 17.0 23.0
2 刘峰 68 201 8.0 12.0
3 易善婷 1 0 0.0 0.0
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高电压技术
月刊
1003-6520
42-1239/TM
大16开
湖北省武汉市珞瑜路143号武汉高压研究所
38-24
1975
chi
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