铯在钨(110)表面吸附行为的第一性原理研究

• 作者: 丁硕 郑剑平 钟武烨
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 第一性原理 铯吸附行为 功函数 偶极子模型
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 第一届全国空间核动力学术会议优秀论文选
• 页码范围: 1-8
• 页数: 8页
• 分类号: TL349
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2018.53.01.0001

摘要

通过基于密度泛函理论的第一性原理计算方法,研究了铯原子在钨(110)表面上的吸附行为.计算结果表明,通过原子数之比定义的最大单层铯原子吸附率为0.4,铯原子的吸附位置随吸附率的增加而变化.铯原子吸附率为0.25时,最可能的吸附位置是长桥,而铯原子吸附率达0.4时,铯原子在钨(110)表面形成完整的单原子层,并呈现-ABA'B'-结构形式.随铯原子吸附率的增加,表面功函数先减小后增大,最终稳定在2.134 eV,其中最小值1.524 eV出现在吸附率为0.25时,该最小值低于纯铯(110)表面的功函数.偶极子模型和分态密度计算结果表明,铯原子向钨基体表面的电子转移机制和铯原子电子能量分布的变化是造成表面功函数降低的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑剑平	中国原子能科学研究院反应堆工程技术研究部	32	66	4.0	6.0
2	钟武烨	中国原子能科学研究院反应堆工程技术研究部	9	6	1.0	2.0
3	丁硕	中国原子能科学研究院反应堆工程技术研究部	2	0	0.0	0.0