Rubrene:MoO3混合薄膜的制备及 光学和电学性质

• 作者: 孙俊杰 张浩 徐智洋 李瑞东 潘志伟 王贵生 邓金祥
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: rubrene:MoO3 混合薄膜 原子力显微镜 X 射线衍射分析 光学性质和电学性质
• 年，卷（期）: 2019,（17）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 247-254
• 页数: 8页
• 字数: 4501字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.68.20190035

摘要

利用热蒸发技术在衬底温度为室温的硅衬底、氧化铟锡衬底和石英衬底上制备了红荧烯与氧化钼的混合薄膜.将两种材料放置于不同的坩埚中,通过控制蒸发源的温度来控制混合比例,制备了不同比例的混合薄膜.通过原子力显微镜对混合薄膜的表面形貌进行了测量,发现当红荧烯与氧化钼的比例为2:1时,薄膜表面的平整度最好;通过X射线衍射分析对混合薄膜的结晶性进行分析,发现不同浓度的混合薄膜均表现出非晶态特征.通过PL谱和吸收光谱研究了不同比例的混合薄膜的光学性质,从光致发光谱可以发现:混合薄膜在近红外区域有显著吸收,说明红荧烯在氧化钼诱导下产生中间能级,形成电荷转移络合物.从吸收谱知:除4:1外,其他比例的混合薄膜具有几乎相同的吸收峰.根据Tauc方程计算了混合薄膜的光学带隙,发现当红荧烯与氧化钼的比例为2:1时,混合薄膜的带隙最窄(～2.23 eV).制备了结构为Al/rubrene:MoO3/ITO的器件,测试了J-V特性,研究了混合薄膜的电学性质.发现当混合比例为4:1和2:1时,混合薄膜与金属电极的接触表现为欧姆接触.本研究显示出红荧烯和氧化钼的混合薄膜在近红外区域有潜在的应用前景,也为红荧烯和氧化钼的混合薄膜在有机光电器件的应用提供了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓金祥	北京工业大学应用数理学院	45	150	7.0	9.0
2	张浩	北京工业大学应用数理学院	21	93	5.0	9.0
3	潘志伟	北京工业大学应用数理学院	6	6	1.0	2.0
4	李瑞东	北京工业大学应用数理学院	3	1	1.0	1.0
5	王贵生	北京工业大学应用数理学院	4	0	0.0	0.0
6	徐智洋	北京工业大学应用数理学院	1	0	0.0	0.0
7	孙俊杰	北京工业大学应用数理学院	2	5	1.0	2.0