平板式外延炉大尺寸硅外延层的均匀性调控

• 作者: 闫秀锋
• 来源期刊: 中国高新区
• 关键词: 平板式外延炉 硅外延层 均匀性 调控举措
• 年，卷（期）: 2019,（20）
• 所属期刊栏目: 机械化工
• 页码范围: 110
• 页数: 1页
• 字数: 2049字
• 语种: 中文

摘要

硅外延层是高端电子产品中常用的技术,主要是通过化学气相沉淀法在硅抛光过程中,在衬底位置生长的一层单晶硅薄膜,此类薄膜可根据电子器件要求对厚度与掺杂浓度进行精细化调控,并且结晶质量与完整性通常较好,能够为高端电子产品的生产质量提供更好的保障.而从外延层质量管控与器件参数角度来看,怎样保持大尺寸外延层的均匀性、可靠性、一致性也成了现代电子器件审核标准中不可忽视的要素,如何提升外延层性能也需要得到技术人员的关注.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫秀锋		1	0	0.0	0.0