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下料方式和流量分配对D4合成SiO2的影响
下料方式和流量分配对D4合成SiO2的影响
作者:
吴学民
张国君
张寒
欧阳葆华
郑丽丽
黄泽宇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
化学气相沉积
反应流数值模拟
SiO2疏松体
摘要:
燃烧器设计和流量控制对燃烧稳定性、SiO2生成、疏松体品质和关键组分分布有重要影响.该文通过对八甲基环四硅氧烷(OMCTS,D4)制备SiO2疏松体过程的数值研究,分析了不同下料方式,以及D4和氧气流量分配对SiO2生成效率和沉积面上关键组分分布的影响.结果 表明:采用多点下料方式可以明显提高SiO2生成率和沉积均匀性;内外D4进口流速接近时,SiO2生成率较高,并且OH浓度有所降低;根据D4质量流量分配对氧气进口流量分配进行调整,能够提高SiO2生成率,但相应的OH浓度也有所增加;但在保持D4质量流量不变的情况下,采用多点下料,导致D4进口速度降低,一定程度上降低了沉积效率.采用多点下料时,可以考虑适当提高D4流量,控制火焰温度,有利于提高SiO2生成和沉积效率.
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文献信息
篇名
下料方式和流量分配对D4合成SiO2的影响
来源期刊
清华大学学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
化学气相沉积
反应流数值模拟
SiO2疏松体
年,卷(期)
2020,(3)
所属期刊栏目
航空航天与工程力学
研究方向
页码范围
233-238
页数
6页
分类号
TK16
字数
语种
中文
DOI
10.16511/j.cnki.qhdxxb.2019.26.050
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张寒
9
55
3.0
7.0
2
郑丽丽
6
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3
张国君
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参考文献(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
化学气相沉积
反应流数值模拟
SiO2疏松体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
清华大学学报(自然科学版)
主办单位:
清华大学
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-0054
CN:
11-2223/N
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区清华园清华大学
邮发代号:
2-90
创刊时间:
1915
语种:
chi
出版文献量(篇)
7846
总下载数(次)
26
总被引数(次)
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