不同电极排列方式下纯铁薄膜晶粒的生长行为

• 作者: 丁国 定巍 李岩 王振宇
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电极排列方式 晶粒大小 晶粒取向 晶粒生长速率
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 111-118
• 页数: 8页
• 分类号: TQ153.19
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.10079289.20190621001

摘要

采用电沉积方法在冷轧过的黄铜片表面制备了纯铁薄膜,并通过改变电极的排列方式来探究纯铁薄膜的生长关系.利用X射线衍射仪对纯铁薄膜进行宏观织构的检测;利用热场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)观察电沉积纯铁薄膜的岛状生长结构;利用扫描电镜自带的Oxford Nordlys Nano软件对纯铁薄膜的取向进行分析.结果表明:当电极采用平行排列方式时,晶粒呈现由小长到大的趋势,且有明显的择优取向,生长速率缓慢,呈抛物线模式生长;当电极采用垂直排列方式时,晶粒大小基本不随时间变化,没有明显的择优取向,但生长速率较快,也呈抛物线模式生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁国		26	93	5.0	8.0
2	王振宇		3	2	1.0	1.0
3	定巍		38	81	5.0	6.0
4	李岩		27	44	4.0	5.0