化学刻蚀法制备硅微纳米复合结构及其光反射性能影响

• 作者: 余思琦 吴子华 张佳 林锦豪 王元元 谢华清 赵诚
• 来源期刊: 上海第二工业大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 金属辅助化学刻蚀 旋涂法 微纳米复合结构
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 所属期刊栏目: 环境与材料工程
• 页码范围: 110-115
• 页数: 6页
• 分类号: O69
• 语种: 中文
• DOI: 10.19570/j.cnki.jsspu.2020.02.005

摘要

提出一种改进的金属辅助化学蚀刻技术(metal-assisted electroless etching,MAEE)来制备硅基微纳米(silicon micropillar/nanowire,MP/NW)复合结构,技术结合了传统MAEE及旋涂法,实验腐蚀液由KMnO4/AgNO3/HF组成,探究了腐蚀温度、旋涂速度及腐蚀时间对复合结构的表面形貌特征的影响,并分析了制备条件对反射率与吸收率的影响规律.结果表明,腐蚀温度改变时,复合结构的高度差、MP的直径和NW的长度都随着温度的增加而减少,而反射率随之增大,吸收率随之减小;当旋涂速度改变时,旋涂速度的增加会导致复合结构的高差、MP直径和NW长度减小,反射率随速度增加而增大,吸收率随之减小;腐蚀时间延长时,复合结构的高度差、MP的直径、吸收率随之减小,而NW高度与其反射率随之增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢华清		62	211	8.0	13.0
2	吴子华		38	28	3.0	3.0
3	王元元		23	9	2.0	2.0
4	余思琦		2	0	0.0	0.0
5	张佳		3	2	1.0	1.0
6	林锦豪		2	0	0.0	0.0
7	赵诚		3	1	1.0	1.0