太阳能电池用原子层沉积超薄氧化硅技术研究

• 作者: 刘舟 吴易龙 唐电 张威 彭宜昌 许烁烁
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 太阳能电池 原子层沉积 超薄薄膜 氧化硅
• 年，卷（期）: 2020,（3）
• 所属期刊栏目: 材料制造工艺与设备
• 页码范围: 1-4,12
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 3126字
• 语种: 中文

摘要

从高效太阳能电池结构要求出发,分析了超薄氧化层的作用,在自研设备的基础上,采用强氧化性的O2等离子体与硅前驱体进行了PEALD沉积研究.在源瓶温度80℃、沉积温度200℃的工艺条件下,薄膜单循环沉积速率达到0.12 nm.对沉积的氧化硅进行致密性HF腐蚀测试,腐蚀速率为4.8 nm/min.薄膜致密性已接近热氧化法制备的氧化硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张威		1	0	0.0	0.0
2	许烁烁		1	0	0.0	0.0
3	唐电		1	0	0.0	0.0
4	彭宜昌		1	0	0.0	0.0
5	刘舟		1	0	0.0	0.0
6	吴易龙		1	0	0.0	0.0