晶片干燥技术在高洁净湿法清洗设备中的应用

• 作者: 夏楠君 王文丽 祝福生 郭立刚
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 颗粒 干燥 离心甩干 IR干燥 Marangoni干燥
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 3443字
• 语种: 中文

摘要

干燥的目的是去除晶片表面的液体,保证晶片的洁净度.干燥技术作为湿法清洗最后的步骤,最终决定了晶片清洗的表面质量.分别探讨了离心甩千干燥单元、IR干燥、Marangoni干燥等技术,同时介绍了各自的优缺点,这些技术在高洁净湿法批处理清洗设备中都有非常广泛的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祝福生	中国电子科技集团公司第四十五研究所	15	29	3.0	5.0
2	王文丽	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	9	2.0	3.0
3	郭立刚	中国电子科技集团公司第四十五研究所	6	0	0.0	0.0
4	夏楠君	中国电子科技集团公司第四十五研究所	10	11	2.0	3.0