扫描电镜能谱数据异常原因分析

• 作者: 张爱敏 高学平
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 工学
• 关键词: 银涂层 能谱仪 原子力显微镜 蒙特卡洛模拟
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 试验技术与方法
• 页码范围: 13-15
• 页数: 3页
• 分类号: TH87
• 字数: 1080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11973/lhjy-wl202008003

摘要

在SiO2基体上电化学沉积400 nm厚度银涂层,然后用扫描电镜能谱仪进行成分表征时,结果出现异常现象.利用原子力显微镜(AFM)和蒙特卡洛模拟(Monte Carlo Simulation)软件对该异常现象产生原因进行了分析.结果表明:氧元素的特征X射线能量Kα=0.525 keV,该能量能级较低难以穿透400 nm厚度的银涂层,硅元素的特征X射线能量Kα=1.74 keV,Kβ=1.838 keV,能级较高,能够穿透该厚度的银涂层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高学平	山东大学材料科学与工程学院	14	39	4.0	6.0
2	张爱敏	山东大学材料科学与工程学院	5	17	3.0	4.0