“ART+CCODeV”光学分析软件在PCB、FPC曝光中的应用

• 作者: 邬通芳 黄凯龄
• 来源期刊: 印制电路资讯
• 学科: 工学
• 关键词: ART+CCODeV光学分析软件 曝光能量分布 照度分布 吸光强度 平行度 鬼影
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 页码范围: 114-117
• 页数: 4页
• 分类号: TN4

摘要

本文简要地介绍了“ART+CCODeV”光学分析软件在PCB、FPC曝光中应用及实操过程,这些功能对PCB、FPC曝光成像分析、优化和评估尤为重要,它减少了工程师们在PCB、FPC曝光成像分析、优化和评估中那些繁缛的细节,使得分析、优化和评估变得轻松起来。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邬通芳		27	6	1.0	2.0
2	黄凯龄		5	1	1.0	1.0