纳米二氧化硅粒径尺寸调控及其对表面化学修饰的影响研究

• 作者: 严顺洪 徐本梁 杨威 肖立鲜
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米SiO2 尺寸调控 羟基基团 化学修饰
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 新型功能材料
• 页码范围: 2321-2325
• 页数: 5页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 3148字
• 语种: 中文

摘要

本文通过sol-gel法制备了粒径可控的纳米SiO2,最小粒径为35 nm,最大粒径为350 nm.采用比表面积测试仪、透射电镜(TEM)、扫描电镜(SEM)以及红外光谱(FTIR)表征了纳米SiO2的物理化学特性,研究了不同粒径纳米SiO2对其表面化学修饰的影响机制.结果表明,sol-gel法制备纳米SiO2用水量显著影响粒径尺寸,粒径小于80 nm时,SiO2表面呈粗糙和不规则球形.粒径小于80 nm的SiO2表面的羟基主要以孤立的羟基存在,而粒径大于180 nm时,其表面的羟基以氢键结合的状态为主.纳米SiO2表面的羟基结合状态决定了其表面与硅氧烷化学反应活性,氢键结合的羟基基团不利于硅氧烷的化学修饰,孤立存在的羟基基团有利于纳米SiO2与硅氧烷反应.这一研究结果对指导纳米二氧化硅的表面处理和化学修饰具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐本梁		2	1	1.0	1.0
2	杨威		4	0	0.0	0.0
3	严顺洪		1	0	0.0	0.0
4	肖立鲜		1	0	0.0	0.0