发光窗口对MOS结构硅LED电光性能的影响

• 作者: 吴克军 徐开凯 易波 李则鹏 赵建明 钱津超 黄兴发
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅基发光器件 CMOS工艺 发光窗口
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 834-838
• 页数: 5页
• 分类号: TN312+.8
• 语种: 中文
• DOI: 10.37188/fgxb20204107.0834

摘要

通过0.18μm标准CMOS工艺设计并制备了一种MOS结构的硅基发光器件.该光源器件在一个n阱中设计了两个相同的PMOS,分别利用p+源/漏区与n阱形成的p+n结进行反偏雪崩击穿而发射可见光.测试结果显示,该光源器件在正偏状态下的开启电压为0.8 V,在6 V的反偏电压下发生雪崩击穿,能够发出黄色的可见光,发光频谱范围为420～780 nm.本文对比了0.5μm和2μm两个不同发光窗口宽度的测试结果,发现该光源器件在更小发光窗口具有更高的发光强度和更好的发光均匀度,该特征与发光器件的反向电流密度分布和光在金属电极间的反射有关.研究成果在片上硅基光电集成回路中具有一定的应用价值.