基于局部保持嵌入-K近邻比率密度的半导体蚀刻过程故障诊断策略

• 作者: 冯立伟 张成 李元 郑百顺 郭青秀
• 来源期刊: 控制理论与应用
• 关键词: 局部保持嵌入 K近邻比率密度 半导体蚀刻过程 故障诊断 多工况
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 论文与报告
• 页码范围: 1342-1348
• 页数: 7页
• 字数: 3468字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7641/CTA.2019.90271

摘要

针对多模态间歇过程存在数据维度高且方差差异较大的特征,提出一种基于局部保持嵌入-K近邻比率密度(NPE-K RD)规则的故障检测方法.首先,利用局部保持嵌入(NPE)方法将原始的高维数据投影到低维空间;其次,在低维空间通过计算样本的密度及其前K近邻密度的均值来建立K近邻比率密度(K RD);最后,根据核密度估计法确定统计量控制限并进行故障诊断.NPE方法既能够在低维空间保持数据局部近邻结构,又能够降低故障检测过程的计算复杂度.通过引入比率密度,NPE-K RD可以降低多模态方差结构差异对故障检测的影响,提高过程故障检测率.通过数值例子和半导体工业过程的仿真实验,并与主元分析、K近邻、局部保持嵌入等方法进行比较,验证了本文方法的有效性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯立伟	沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心	31	59	4.0	6.0
2	张成	沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心	57	159	6.0	10.0
3	李元	沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心	122	550	12.0	18.0
4	郑百顺	沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心	1	0	0.0	0.0
5	郭青秀	沈阳化工大学技术过程故障诊断与安全性研究中心	9	7	2.0	2.0