光氯化反应脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷

• 作者: 万烨 严大洲 刘见华 肖劲
• 来源期刊: 精细化工
• 学科: 工学
• 关键词: 微通道 光氯化 三氯氢硅 甲基二氯硅烷 精细化工中间体
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 所属期刊栏目: 精细化工中间体
• 页码范围: 201-206,216
• 页数: 7页
• 分类号: TQ264.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13550/j.jxhg.20190374

摘要

以三氯氢硅和氯气为原料,采用连续流微通道反应器,利用光氯化反应选择性脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷,考察了各因素对甲基二氯硅烷去除率的影响.结果表明,光氯化反应的最优条件为:n(Cl2):n(CH4Cl2Si)=5:1,反应温度50℃,紫外光波长为365 nm,光强为15 W,反应时间为20 s.在最优条件下,产品中甲基二氯硅烷含量小于5×10–8 g/g,去除率达到99.67％;反应产物中出现少量四氯化硅,是聚氯硅烷和三氯氢硅发生氯化反应生成的.以最优条件制备的三氯氢硅为原料,使用评价炉制备的多晶硅中碳原子浓度小于3×1015atoms/cm3,达到电子一级品指标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖劲	中南大学冶金与环境学院	75	681	15.0	21.0
3	万烨	中南大学冶金与环境学院	12	91	6.0	9.0
14	严大洲		1	1	1.0	1.0
18	刘见华		1	1	1.0	1.0