基于遗传算法的微反射镜阵列角位置分布算法

• 作者: 张方 曾宗顺 朱思羽 牛志元 马晓喆 黄惠杰
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 测量 浸没光刻机 自由光瞳照明 微反射镜阵列 角位置分布算法
• 年，卷（期）: 2020,（8）
• 所属期刊栏目: 光纤光学与光通信
• 页码范围: 189-197
• 页数: 9页
• 分类号: O439
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202047.0805003

摘要

自由光瞳照明技术是28 nm及以下节点浸没光刻机中一种重要的光刻分辨率增强技术,其通过微反射镜阵列(MMA)调整光束的角谱来实现任意照明模式,MMA角位置分布对自由光瞳照明技术的应用具有重要的意义.提出了基于遗传算法的MMA角位置分布算法,该算法相比基于模拟退火算法的MMA角位置分布算法,迭代速度提高了10倍以上,并且该算法得到的MMA角位置分布可精确复现目标光瞳强度分布.光刻性能仿真结果表明,对于数千种光刻胶曝光图形,算法光瞳和目标光瞳的光刻胶曝光图形不对称性分布的方均根(RMS)值基本一致,关键尺寸差异分布RMS值均小于0.5 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄惠杰	中国科学院上海光学精密机械研究所	69	544	13.0	23.0
2	张方	中国科学院上海光学精密机械研究所	17	138	5.0	11.0
3	曾宗顺	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0
4	牛志元	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0
5	马晓喆	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0
6	朱思羽	中国科学院上海光学精密机械研究所	2	0	0.0	0.0