纳秒脉冲等离子体合成射流激励器的流场特性分析

• 作者: 于维鑫 朱文超 程晓 黄邦斗 章程 邵涛
• 来源期刊: 气体物理
• 学科: 航空航天
• 关键词: 等离子体合成射流 流场分析 PIV 纳秒脉冲 流动控制
• 年，卷（期）: 2021,（2）
• 所属期刊栏目: 等离子体空气动力学专题
• 页码范围: 38-45
• 页数: 8页
• 分类号: V211
• 语种: 中文
• DOI: 10.19527/j.cnki.2096-1642.0821

摘要

采用一台高重频、快上升沿纳秒脉冲电源作为激励源,对典型的双电极合成射流激励器进行放电,通过粒子图像测速法(particle image velocimetry,PIV)测量放电实验中激励器稳定流场特性以及发展速度.分析实验结果发现,随着重复频率的提高,合成射流的平均发展速度也随之增大,1 kHz时的平均速度最高达到28.28 m/s,并在单脉冲能量远低于微秒脉冲的情况下,实现了更快的稳态流场控制,表明高重复频率下,更多次数的脉冲放电可提高激励总能量,有效地弥补纳秒脉冲单脉冲输出能量不足的缺点.而且频率越高,流场发展速度越快,说明高重频工作模式会对输出总能量有补偿作用.