光学玻璃超精密抛光加工中材料去除机理研究综述

• 作者: 蒋小为 龙兴武 谭中奇
• 来源期刊: 中国激光
• 关键词: 材料 光学玻璃 超光滑表面 抛光加工 材料去除机理
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 综述|Reviews
• 页码范围: 231-248
• 页数: 18页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL202148.0401014

摘要

光学玻璃以其优异的物理性能被广泛应用于航天、信息、能源、化工、微电子等领域.随着这些领域的不断发展,传统技术已无法满足日新月异的光学元件超光滑表面加工的要求.为此,需要针对光学玻璃表面的超精密抛光加工展开深入且广泛的研究.在诸多有关超精密抛光加工技术的研究中,光学玻璃材料的抛光去除机理始终是人们的研究重点.为此,本文从超抛加工涉及的基本组件、材料去除的物理机理、材料去除的化学机理三个方面入手,对光学玻璃超精密抛光加工中材料去除机理进行综述,目的是掌握国内外学术界对于该问题的认识,并据此提出若干问题的思考,以期指导工程实践,进一步提升超光滑表面的成形能力.