超精密抛光材料的非连续去除机理

• 作者: 吴燕玲 王永光 赵永武 雒建斌
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 化学机械抛光 协调效应 非连续 模型
• 年，卷（期）: 2007,（9）
• 所属期刊栏目: 机械科学
• 页码范围: 1032-1035
• 页数: 4页
• 分类号: TG115.58
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2007.09.007

摘要

通过对表面原子/分子氧化去除动态平衡模型的分析,应用概率统计方法推导了单个磨粒的多分子层薄膜的非连续去除模型,该模型考虑了化学机械抛光(CMP)中化学作用与机械作用的协调性,同时考虑了芯片新鲜表面的直接去除和多层氧化薄膜的去除.在特定条件下,应用图形分析法找到了化学作用与机械作用协调的半经验公式.研究结果表明:材料去除率与去除层数呈指数关系;一直增加化学作用并不能增大材料去除率;机械化学协调作用时,去除率始终保持极值去除.模型预测结果和试验结果相吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵永武		117	687	12.0	21.0
2	王永光		26	137	6.0	10.0
3	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0
4	吴燕玲		3	18	2.0	3.0