FESEM荷电消除技术中各参数的选择机制研究

• 作者: 蔡志伟 任小明 邓锐
• 来源期刊: 湖北大学学报（自然科学版）
• 关键词: 场发射扫描电子显微镜 荷电效应 材料分析 背散射像
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 化学化工与材料科学
• 页码范围: 321-328
• 页数: 8页
• 分类号: TN16
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2375.2021.03.015

摘要

场发射扫描电子显微镜(FESEM)在研究材料表面形貌领域有广泛的应用.荷电现象是扫描电镜中影响图像质量的重要原因之一.为了消除荷电现象,获得不导电样品真实清晰的扫描电镜图片,从荷电效应的产生机理出发,利用配备X线能谱仪的场发射扫描电镜,通过调节加速电压、驻留时间、探测器类型、扫描方式、及光阑孔径等参数,对比分析土壤、聚苯乙烯微球、块体材料、ZnCo2 O4纳米针、石膏等材料在消除荷电现象前后的FESEM图片,并探讨了在不镀膜情况下各种试验参数对消除荷电现象的作用机制,分析每个参数对消除荷电的影响原理,并提出一种快速选择最优加速电压的方法和一条简单的消除荷电的参数选择思路.在处理场发射扫描电镜测试中出现荷电问题时有很好的适应性.