0.25μm掩模制造中激光直写参数的优化研究

• 作者: 袁卓颖 华卫群 刘浩
• 来源期刊: 电子与封装
• 关键词: 掩模 束斑 剂量 焦距 光束一致性 拼接 条宽均匀性
• 年，卷（期）: 2021,（6）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性|Microelectronics Fabrication & Reliability
• 页码范围: 69-73
• 页数: 5页
• 分类号: TN407
• 语种: 中文
• DOI: 10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0615

摘要

主要介绍了激光直写的工艺原理和主要的直写参数,通过试验的方式,对0.25 μm掩模制造中的激光直写参数束斑剂量、焦距、每束光的剂量、光束一致性以及拼接进行分析和优化,最终确定最佳的工艺参数,使得掩模条宽(CD)均匀性提高近20nm.