TFT制程曝光色差研究

• 作者: 黄霜霜 喻玥 马国永 赵辉 高文 沈建华 陈萍 阳志林 李连峰 马新星
• 来源期刊: 液晶与显示
• 关键词: TFT 曝光色差 图像处理 照度均一性 馈入电压
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 器件物理及器件制备技术|Device Physics and Device Preparation
• 页码范围: 412-419
• 页数: 8页
• 分类号: TN27
• 语种: 中文
• DOI: 10.37188/CJLCD.2020-0146

摘要

在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量.为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究.首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查.同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价.然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10％以上降至1％以内,有效改善面板显示品质.最后,结合Ex-pertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理.研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现.同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响.