TFT-LCD制程对低频横纹色差的影响及研究

• 作者: 曾龙 杨丽 顾小祥
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 光配向 低频横纹色差 漏电流
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 160-168
• 页数: 9页
• 分类号: TN27
• 字数: 3226字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20193402.0160

摘要

LC配向的均一性在LCD中是必不可少的,光配向制程是通过施加紫外偏振光照射在IPS(In-Plane Switch)LCD中形成液晶配向沟槽的一种技术,然而紫外光照射的同时会损伤TFT器件,使非晶硅层产生光生载流子,电子发生迁移,导致TFT漏电流从而影响图像品质,产生横纹色差.在低频时,栅极开关时间延长,相邻扫描线之间容易发生混充电现象,部分充电截止的像素重新充电,从而使横纹色差变严重.本文从制程和电性调整方面对低频横纹色差进行了研究,结果表明:(1)紫外光照射后进行烘烤,可以有效降低漏电流,高温度(240℃)+长时间(4200 s)改善低频横纹色差效果佳(比例:0.00％);(2)延长Out Enable(4.8μs)+降低V gh(18 V)+提高GOA(Gate On Array)电路中电压V SS_Q(-7.5 V),改善低频横纹色差效果佳(比例:0.00％).