Cs2HfCl6和Cs2HfCl6:Tl晶体的生长、光学和闪烁性能研究

• 作者: 成双良 任国浩 吴云涛
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 关键词: Cs2HfCl6:Tl 自陷激子发光 sp-s2跃迁 闪烁晶体 坩埚下降法 能量分辨率
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文|Research Articles
• 页码范围: 803-808
• 页数: 6页
• 分类号: O734
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2021.05.002

摘要

本文使用坩埚下降法制备了?7 mm的未掺杂Cs2 HfCl6与Cs2 HfCl6:0.2％Tl(摩尔分数)单晶,对晶体样品进行了物相、杂质含量、光学和闪烁性能的研究.该晶体属于立方晶系,空间群为Fm3m.在荧光和X射线激发下,未掺杂Cs2 HfCl6晶体的发光主峰皆为380 nm,对应于自陷激子发光.Cs2 HfCl6:0.2％Tl晶体在荧光和X射线激发下,发射光谱中除了存在380 nm处的自陷激子发光,也存在505 nm处Tl+的sp-s2跃迁发光.Cs2 HfCl6和Cs2 HfCl6:0.2％Tl晶体的光输出分别为37000 photons/MeV和36500 photons/MeV,在662 keV处的能量分辨率皆为3.5％.在137 Cs源激发下,Cs2HfCl6晶体的闪烁衰减时间为0.37μs(4.2％)、4.27μs(78.9％)和12.52μs(16.9％),Cs2HfCl6:0.2％Tl晶体的闪烁衰减时间为0.33μs(3.5％)、4.09μs(81.9％)和10.42μs(14.5％).