H2O2热处理对Cu2O薄膜结构及性能的影响

• 作者: 宋瑛 刘文峥 毛永强 徐连升 牛珂 杨绍斌
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 关键词: Cu2O薄膜 H2O2热处理 禁带宽度 光吸收
• 年，卷（期）: 2021,（5）
• 所属期刊栏目: 材料表面改性
• 页码范围: 129-134
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2020-0448

摘要

采用电化学沉积法制备了 Cu2o薄膜并对薄膜表面进行了不同温度的H2O2热处理.利用扫描电镜、X射线衍射仪、紫外-可见光透射谱仪和俄歇能谱仪研究了 H2O2热处理对Cu2O薄膜的结构及光电性能的影响.结果表明:经过60℃的H2O2热处理10 min的样品其结晶性变好,薄膜表面被氧化,禁带宽度值从2.36 eV减小至2.27 eV,表明薄膜光吸收率增强,可提高太阳能电池光电转换效率.随着H2O2热处理时间的增加,薄膜表面均匀性和致密性降低,表明金字塔形貌逐渐被破坏.经过90℃的H2O2热处理10 min后样品的表面粗糙且存在微小的孔,随着处理时间的增加样品表面存在不规则隆起并产生凹坑和细孔,表明过高温度和过长时间的H2O2热处理会严重腐蚀Cu2O薄膜表面,破坏其结构.