高磁感取向硅钢研究开发的关键工艺及其研究进展

• 作者: 杨明波 谭磊 李上民 胡捷 邹红 熊必润 张驰
• 来源期刊: 重庆理工大学学报（自然科学版）
• 关键词: 高磁感取向硅钢 稀土微合金化 抑制剂 渗氮处理 表面涂层和激光刻痕
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 机械·材料
• 页码范围: 103-110
• 页数: 8页
• 分类号: TG142.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-8425(z).2021.04.014

摘要

综述了高磁感取向硅钢在稀土微合金化设计、抑制剂形成、渗氮处理、表面绝缘涂层和激光刻痕等关键工艺的研究现状及取得的最新进展,讨论了目前这些关键工艺环节研究还存在的问题,最后指出了高磁感取向硅钢关键工艺环节研究未来的发展思路,尤其指出需要加强激光刻痕技术与表面涂层技术的有机结合.