基于光流法的稀疏光场稠密重建算法

• 作者: 刘健 宋娜 潘晋孝 Abdulr Ghaffa 杨明
• 来源期刊: CT理论与应用研究
• 学科: 工学
• 关键词: 光场 光场重建 LK光流法
• 年，卷（期）: 2022,（2）
• 所属期刊栏目: 工业CT|Industrical CT
• 页码范围: 173-185
• 页数: 13页
• 分类号: O242|TP391.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.15953/j.ctta.2021.052

摘要

光场成像在三维重建、合成孔径去遮挡和全息成像等应用中具有重要作用.光场稠密重建算法能够弥补光场成像硬件的不足,实现稀疏光场的稠密重建.本文从二维光流基本原理出发,以光场双平面模型为基础,提出一种新的四维光场光流约束方程数学模型,利用该约束方程求解得到的光场光流确定新视角的位置坐标,并通过插值计算及图像反演逐点获得新坐标的强度值,最终获得高质量的新视角合成图像.实验结果表明,本文方法能够对长基线场景中的纹理、阴影及色彩等信息进行高质量重建,定量评价结果表明该算法能够完成复杂场景的光场稠密重建任务.本文算法仅适用于线性光场光流的约束以及一维视角光场的情形,后续相关研究将围绕非线性光流约束以及多维视角光场的情形展开.